发明名称 Low temperature dielectric deposition using aminosilane and ozone
摘要
申请公布号 AU2003256559(A8) 申请公布日期 2004.02.09
申请号 AU20030256559 申请日期 2003.07.15
申请人 AVIZA TECHNOLOGY, INC. 发明人 YOSHIHIDE SENZAKI
分类号 C23C16/42;C23C16/30;C23C16/44;H01L21/318;H01L21/768;H01L23/522;(IPC1-7):H01L21/469 主分类号 C23C16/42
代理机构 代理人
主权项
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