| 发明名称 |
METHOD AND SYSTEM FOR CONTEXT-SPECIFIC MASK INSPECTION |
| 摘要 |
<p>A method for inspecting lithography masks includes generating integrated circuit design data and using context information from the integrated circuit design data to inspect a mask.</p> |
| 申请公布号 |
AU2003256530(A1) |
申请公布日期 |
2004.02.02 |
| 申请号 |
AU20030256530 |
申请日期 |
2003.07.14 |
| 申请人 |
CADENCE DESIGN SYSTEMS, INC. |
发明人 |
ROBERT, C. PACK;LOUIS, K. SHEFFER |
| 分类号 |
G03F;G03F1/84;G03F9/00;G06F7/60;G06F17/10;G06F19/00 |
主分类号 |
G03F |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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