发明名称 聚醯胺酸树脂组成物
摘要 本发明系提供一种对于涂膜性、基板之密合性良好,使用正型光致抗蚀剂可做成图型者,图型形成后转化为聚亚胺后,于涂膜上部可取得具有低表面能量之聚醯亚胺树脂者之隔层形成用聚醯胺酸树脂组成物者。含有做为基剂之聚醯胺酸〔a〕与具有含碳数2以上烷基之聚醯胺酸〔 b〕,针对聚醯胺酸〔a〕与聚醯胺酸〔b〕总量其聚醯胺酸〔b〕之含量为0.1~30wt%者,藉由聚醯胺酸树脂组成物而达成之。
申请公布号 TW574317 申请公布日期 2004.02.01
申请号 TW091116607 申请日期 2002.07.25
申请人 日产化学工业股份有限公司 发明人 中真;丹尼尔 沙哈德;仁平贵康
分类号 C08L79/04 主分类号 C08L79/04
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路二段一二五号七楼
主权项 1.一种隔层形成用聚醯胺酸树脂组成物,其特征系含有下式(1)(R1为构成四羧酸或其衍生物之4价有机基者,R2为构成二胺之2价有机基者,k为整数者)所代表之重覆单位,且还原粘度为0.05~5.0dl/g(温度30℃之N-甲基咯烷酮中,浓度0.5g/dl)之聚醯胺酸﹝a﹞,与含有下式﹝2﹞(R3为构成四羧酸或其衍生物之4价有机基者,R4为构成二胺之2价有机基者,R4之1~100莫耳%为具有1个或复数个碳数2以上之含氟烷基,1为整数)所代表之重覆单位,且还原粘度为0.05~5.0dl/g(温度30℃之N-甲基咯烷酮中,浓度0.5g/dl)之聚醯胺酸﹝b﹞者,其中,聚醯胺酸﹝b﹞之含量为对聚醯胺酸﹝a﹞与聚醯胺酸﹝b﹞总量之0.1~30wt%者。2.如申请专利范围第1项之聚醯胺酸树脂组成物,其中该式(1)之R1为构成1,2,3,4-环丁烷四羧酸或其衍生物之4价有机基者。3.如申请专利范围第1项之聚醯胺酸树脂组成物,其中该式(2)之R3为构成1,2,3,4-环丁烷四羧酸或其衍生物之4价有机基者。4.如申请专利范围第2项之聚醯胺酸树脂组成物,其中该式(2)之R3为构成1,2,3,4-环丁烷四羧酸或其衍生物之4价有机基者。5.如申请专利范围第1项至第4项中任一项之聚醯胺酸树脂组成物,其中该组成物系涂布正型抗蚀剂于涂膜后,介着光罩进行曝光,以硷显像液进行显像,将抗蚀剂剥离后进行加热之后,做成聚醯亚胺树脂时,其未曝光部之聚醯亚胺树脂涂膜上部表面能量为35dyn/cm以下者。6.如申请专利范围第1项至第4项中任一项之聚醯胺酸树脂组成物,其中该组成物于涂膜上涂布正型抗蚀剂,介着光罩曝光,以硷显像液进行显像,将抗蚀剂剥离后进行加热,做为聚醯亚胺树脂时,其未曝光部之聚醯亚胺树脂涂膜上部水之接触角为80以上者。
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