光罩

摘要

于假想领域（2）及（3）形成作为副图案之虚设图案。但假想领域（2）及（3）仅形成主图案时之开口率分别为60％、90％。假想领域（2）中之虚设图案系边长O.15μm之正方形遮光图案，假想领域（3）中之虚设图案系边长0.2μm之正方形遮光图案。又，假想领域（2）及（3）之开口率皆设定于30％。如使用此光罩进行曝光，于感光体的曝光光可照射的范围内，无论于哪一点，因局部光斑所产生的光量几乎相同。结果，即使产生线宽变动，光罩全体变动的幅度皆相同。