| 发明名称 | 图形转印用光掩模的图形布局方法及图形转印用光掩模 | ||
| 摘要 | 基于本发明的图形转印用光掩模的布局方法具备：配置把像向感光膜转印的带状主图形(11a、11b)的步骤；基于主图形(11a、11b)的布局、按照规定的规则临时配置实质上不把像向感光膜转印的辅助图形(12a、12b)的步骤；在这些辅助图形(12a、12b)中，挑选形成其一端的端边与形成主图形(11b)一端的端边部分重复而接触的辅助图形(12a)的步骤；以及调节挑选了的辅助图形(12a)的位置，以使挑选了的辅助图形(12a)的端边与主图形(11b)的端边完全重复而接触的步骤。通过使用这样的图形转印用光掩模的布局方法，一面谋求提高分辨率，一面能够容易地进行掩模缺陷检查。 | ||
| 申请公布号 | CN1471133A | 申请公布日期 | 2004.01.28 |
| 申请号 | CN03107907.5 | 申请日期 | 2003.03.24 |
| 申请人 | 三菱电机株式会社 | 发明人 | 玉田尚久 |
| 分类号 | H01L21/027;G03F1/08 | 主分类号 | H01L21/027 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 刘宗杰;叶恺东 |
| 主权项 | 1.一种图形转印用光掩模的图形布局方法，该方法在半导体装置的制造工艺中使用，把像向感光膜转印，其特征在于具备：配置把像向感光膜转印的带状图形的步骤；基于上述带状图形的布局、按照规定的规则临时配置实质上不把像向感光膜转印的辅助图形的步骤；在上述辅助图形中，挑选形成其一端的端边与形成上述带状图形一端的端边部分重复而接触的辅助图形的步骤；以及调节上述挑选了的辅助图形的位置，以使上述挑选了的辅助图形的端边与带状图形的端边完全重复而接触的步骤. | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||