微影术用形成抗反射膜用组成物及使用此组成物之光阻层合体

摘要

本发明系提供一种由含有乙烯咪唑与另外的水溶性膜形成性单体之共聚物、及氟系界面活性剂所组成的组成物，并将该组成物溶解于水中而形成涂布液的抗反射膜，且使该抗反射膜形成于光阻膜表面上而所获得光阻叠合层。藉由本发明便可提供与一般光阻组成物具优越相溶性平衡性，即便采用单一涂布装置，依序进行光阻组成物之涂布与形成抗反射膜的情况下，其废液亦不致阻塞于废液配管内，可高效率的制造半导体元件，且有利于洁净室内节省空间化之微影术用形成抗反射膜用组成及使用此组成物之光阻层合体。

主权项

1.一种微影术用形成抗反射膜用组成物,其特征在于:含有乙烯咪唑与其之外的水溶性膜形成性单体之共聚物、及氟系界面活性剂,该乙烯咪唑:其之外的水溶性膜形成成分的调配比率,以重量比计,为1:99~40:60范围内。2.如申请专利范围第1项之微影术用形成抗反射膜用组成物,其中该水溶性膜形成性单体,系由乙烯系单体、纤维素系单体、及丙烯酸系单体中选出之至少一种者。3.如申请专利范围第2项之微影术用形成抗反射膜用组成物,其中该水溶性膜形成性单体系乙烯系单体。4.如申请专利范围第3项之微影术用形成抗反射膜用组成物,其中该乙烯系单体系乙烯咯啶酮。5.如申请专利范围第1项之微影术用形成抗反射膜用组成物,其中该调配比率,以重量比计,为5:95 ~ 20:80范围内。6.一种光阻层合体,其特征在于:将采用申请专利范围第1项之组成物而调制成的抗反射膜,形成于光阻表面上而得者。