| 主权项 |
1.一种可成像介质,包括: 一具有第一表面之基材; 一覆盖基材之第一表面之多孔性层;及 其中该多孔性层包括交联聚乙烯基咯啶酮颗粒 及沸石颗粒。2.根据申请专利范围第1项之可成像 介质,其更包括一覆盖多孔性层之第一表面之上层 。3.根据申请专利范围第1项之可成像介质,其更包 括一覆盖多孔性层之第一表面之上层; 其中该上层系为光学透明。4.根据申请专利范围 第1项之可成像介质,其中该基材包括聚氯乙烯。5. 根据申请专利范围第1项之可成像介质,其中该基 材包括聚对苯二甲酸乙二酯二元醇。6.根据申请 专利范围第1项之可成像介质,其中该多孔性层更 包括选自由矽酸盐、铝酸盐、滑石、碳酸钙、及 二氧化钛所组成之群之填料。7.根据申请专利范 围第1项之可成像介质,其中将为第二片材之多孔 性层之第一表面黏合至上层之第二表面。8.根据 申请专利范围第1项之可成像介质,其更包括一设 置于多孔性层之第一表面与上层之第二表面之间 的增黏层。9.根据申请专利范围第1项之可成像介 质,其更包括一吸收于多孔性层上方之墨水保留涂 层。10.根据申请专利范围第1项之可成像介质,其 更包括一吸收于多孔性层上方之墨水保留涂层; 其中该墨水保留涂层包括聚[(乙烯基咯啶酮)x( 丙烯酸)y(甲基丙烯酸二甲胺乙酯氯甲烷)z]。11.根 据申请专利范围第1项之可成像介质,其更包含于 该多孔性层上之印刷影像。12.一种可成像介质,包 括: 一具有第一表面之基材; 一覆盖基材之第一表面之多孔性层; 一覆盖多孔性层之第一表面之上层; 其中该多孔性层包括复数个沸石颗粒;及 其中该多孔性层更包括交联聚乙烯基咯啶酮颗 粒。13.根据申请专利范围第12项之可成像介质,其 中该上层系为光学透明。14.根据申请专利范围第 12项之可成像介质,其中该基材包括聚氯乙烯。15. 根据申请专利范围第12项之可成像介质,其中该基 材包括聚对苯二甲酸乙二酯二元醇。16.根据申请 专利范围第12项之可成像介质,其中该多孔性层更 包括选自由矽酸盐、铝酸盐、滑石、碳酸钙、及 二氧化钛所组成之群之填料。17.根据申请专利范 围第12项之可成像介质,其中将为第二片材之多孔 性层之第一表面黏合至上层之第二表面。18.根据 申请专利范围第12项之可成像介质,其更包括一设 置于多孔性层之第一表面与上层之第二表面之间 的增黏层。19.根据申请专利范围第12项之可成像 介质,其更包含于该多孔性层上之印刷影像。20.根 据申请专利范围第7项之可成像介质,其中该基材 系白色的。21.根据申请专利范围第16项之可成像 介质,其中该基材系白色的。图式简单说明: 图1系根据本发明之多层结构的高度示意横剖面图 ; 图2系根据本发明之一范例具体实施例之结构的显 微照片,在此图中,结构经放大约5000倍; 图3系根据本发明之一范例具体实施例之结构的显 微照片,在此图中,结构经放大约1000倍; 图4系根据本发明之一范例具体实施例之结构的显 微照片,在此图中,结构经放大约5000倍; 图5系根据本发明之一范例具体实施例之结构的显 微照片,在此图中,结构经放大约1000倍; 图6系根据本发明之多层结构的高度示意横剖面图 ; 图7系由如实施例11中之说明制备得之样品测得之 光谱反射率値的图;及 图8系根据本发明之一范例具体实施例之乾式流延 生产线的概略图示。 |
