| 主权项 |
1.一种研磨液的制造装置,系针对调制主要由水以 及研磨颗粒所组成的研磨液之研磨液的制造装置, 其特征为: 具备:将所供给的泥状研磨剂原液和纯水混合,调 制成一定的研磨颗粒浓度之研磨液的调制槽(2);以 及使调制后的研磨液循环,维持该研磨液的悬浮状 态之研磨液循环装置(L4);而且, 研磨液循环装置(L4),包含研磨液循环用的管路(56) 以及可调整流量的旁通管路(561);而在旁通管路(561 )中,设置用来检测出规定粒径以上之粒径的研磨 颗粒以及计算其数量之研磨液监视用的微粒检测 器(7);微粒检测器(7),系对有研磨液通过的流槽(74), 照射一定波长的光,检测出由于前述规定粒径以上 之粒径的研磨颗粒所造成之透过光的减衰之光遮 断方式的检测器;流槽(74)则藉由旁通管路(561)的流 量调整,构成可以使研磨液以一定的流速通过。2. 如申请专利范围第1项所述之研磨液的制造装置, 其中在微粒检测器(7)中,具备校正机能,当要检测 出由于规定粒径以上之粒径的研磨颗粒所造成之 透过光的减衰时,修正由于研磨液中之比规定粒径 小之研磨颗粒所造成的灵敏度降低。3.如申请专 利范围第1项或第2项所述之研磨液的制造装置,其 中具备用来贮存在调制槽(2)中所调制成的研磨液 之研磨液槽(3);而且,研磨液循环装置(L4),构成可以 使研磨液槽(3)的研磨液循环。4.如申请专利范围 第3项所述之研磨液的制造装置,其中研磨液槽(3), 系藉由添加剂供给装置(L3)而构成可被供给添加剂 。5.如申请专利范围第1或2项所述之研磨液的制造 装置,其中在研磨液循环用的管路(56)中,位于微粒 检测器(7)的上游测,配置用来捕捉规定粒径以上之 粒径的研磨颗粒之循环管路用的过滤器(61)。6.如 申请专利范围第5项所述之研磨液的制造装置,其 中在循环用的管路(56)中,与过滤器(61)并联地配置 循环管路用的第2过滤器;而作成当由微粒检测器(7 )检测出每单位流量中之规定粒径以上之粒径的研 磨颗粒的数量超过规定界限时,便可以将流路切换 至前述第2过滤器侧。7.如申请专利范围第1或2项 所述之研磨液的制造装置,其中具备:当由微粒检 测器(7)检测出每单位流量中之规定粒径以上之粒 径的研磨颗粒的数量超过规定界限时,便会发生警 报的功能。8.如申请专利范围第1或2项所述之研磨 液的制造装置,其中在研磨液循环装置(L4)的后段, 具备:将藉由研磨液循环装置(L4)而循环的研磨液, 供给至研磨装置(9)中的研磨液供给装置(L5);而且, 研磨液供给装置(L5),包含:研磨液供给用的管路(57) 以及可以调整流量的旁通管路(571);而在旁通管路( 571)中,设置用来检测出规定粒径以上之粒径的研 磨颗粒且计算其数量之研磨液监视用的微粒检测 器(8);微粒检测器(8),系对有研磨液通过之流槽,照 射一定波长的光,然后检测出由于前述规定粒径以 上之粒径的研磨颗粒所造成之透过光的减衰之光 遮断方式的检测器;前述流槽,系藉由旁通管路(571) 的流量调整,构成可以使研磨液以一定的流速通过 。9.如申请专利范围第8项所述之研磨液的制造装 置,其中在微粒检测器(8)中,具备校正机能,当要检 测出由于规定粒径以上之粒径的研磨颗粒所造成 之透过光的减衰时,修正由于研磨液中之比规定粒 径小之研磨颗粒所造成的灵敏度降低。10.如申请 专利范围第8项所述之研磨液的制造装置,其中在 研磨液供给用的管路(57)中,位于微粒检测器(8)的 上游测,配置用来捕捉规定粒径以上之粒径的研磨 颗粒之供给管路用的过滤器(62)。11.如申请专利范 围第10项所述之研磨液的制造装置,其中在研磨液 供给用的管路(57)中,与过滤器(62)并联地配置供给 管路用的第2过滤器;而作成当由微粒检测器(8)检 测出每单位流量中之规定粒径以上之粒径的研磨 颗粒的数量超过规定界限时,便可以将流路切换至 前述第2过滤器侧。12.如申请专利范围第8项所述 之研磨液的制造装置,其中具备:当由微粒检测器(8 )检测出每单位流量中之规定粒径以上之粒径的研 磨颗粒的数量超过规定界限时,便会发生警报的控 制装置(10)。图式简单说明: 第1图系表示关于本发明之研磨液的制造装置之概 要的系统图。 第2图系表示关于被应用在本发明之研磨液的制造 装置中之微粒检测器的原理的部分剖面之侧视图 以及俯视图。 第3图系表示从微粒检测器的感测元件传送来的输 出以及变换后之控制用的脉波讯号之例的图。 |
