发明名称 粉体单层皮膜之形成方法
摘要 本发明提供一种新的涂饰方法,即使使用颗粒体积平均直径在15μm以下的细小粉体时,也可以在基质上形成均匀的粉体单层皮膜。在基质上透过其他的层或直接形成由重量平均分子量 25万以上的黏合剂构成之黏合层,粉体附着在黏合层的表面,藉着粒状加压介质的冲击力使粉体埋在黏合层的表面,并去除附着后剩余的粉体,形成由单层埋入黏合层且部份突出在黏合层表面的多数粉体构成的粉体单层皮膜。
申请公布号 TW572986 申请公布日期 2004.01.21
申请号 TW089113845 申请日期 2000.07.12
申请人 巴川制纸所股份有限公司 发明人 藤原 晃;三谷修司;村田 力
分类号 C09J5/00;C23C26/00 主分类号 C09J5/00
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路二段七十七号八楼;何秋远 台北市大安区敦化南路二段七十七号八楼
主权项 1.一种粉体单层皮膜形成方法,系为在基质及基质 上层叠具有选自于聚酯类树脂、环氧类树脂、聚 胺甲酸酯类树脂、聚矽氧烷类树脂、丙烯酸类树 脂的黏合剂之黏合层表层,由以一部份突出于此黏 合层表面之状态单层埋入的多数粉体组成的粉体 单层皮膜之形成方法,其特征为具有四个步骤,即 在基质上形成重量平均分子量25万以上之黏合层 的步骤,将粉体黏着在该黏合层表面的步骤,利用 球型加压介质的冲击力使粉体埋入该黏合层表面 的步骤,及去除上述步骤中黏着在层叠体的剩余粉 体之步骤;其中该黏合层的玻璃转移温度为-55~-15 ℃。2.如申请专利范围第1项之粉体单层皮膜形成 方法,其中加压介质是一种直径为0.1~3.0mm的球型物 ,振动此加压介质产生的冲击力打击在上述粉体上 ,使粉体埋入上述黏合层中。3.如申请专利范围第1 项之粉体单层皮膜形成方法,其中在该去除剩余粉 体的步骤中,利用添加水或洗净助剂的水溶液进行 湿洗净后,也进行层叠物的乾燥步骤。4.如申请专 利范围第1项之粉体单层皮膜形成方法,其中在上 述将粉体黏着在黏合层表面的步骤中,利用空气的 流动压力使粉体成为流动化状态,将基质隐藏其中 而使粉体黏着在该黏合层的表面。5.如申请专利 范围第1项之粉体单层皮膜形成方法,其中在将粉 体黏着在黏合层表面的工程中,利用空气喷雾的方 法使粉体黏着在该黏合层的表面。6.如申请专利 范围第1项之粉体单层皮膜形成方法,其中在形成 至少含有黏合剂及硬化剂的黏合层之后,于黏合层 硬化后才使粉体黏着在其表面。7.如申请专利范 围第6项之粉体单层皮膜形成方法,其中在黏合层 上将剥离薄膜进行层压,使硬化形成保护黏合层的 状态。8.如申请专利范围第1至7项中任一项之粉体 单层皮膜形成方法,其中基质是一种薄膜或薄片状 物,可使用涂覆器涂布黏合层。9.如申请专利范围 第1至7项中任一项之粉体单层皮膜形成方法,其中 使用粒径分布在0.8~1.0间的粉体。10.如申请专利范 围第1至7项中任一项之粉体单层皮膜形成方法,其 中使用正圆度在80%以上的粉体。11.一种填料透镜 的制造方法,系为在基质及基质上层叠着至少含有 放射线硬化型树脂的黏合层,和填料层其在此黏合 层表面突出一部份而埋入黏合层表层,具有此二者 之填料透镜的制造方法,其特征为具有四个步骤, 即在基质上层叠该黏合层的步骤,藉由加压介质的 外力打击在填料上使填料埋入黏合层之步骤,使黏 合层硬化的步骤,及去除上述步骤中黏着在层叠体 的剩余填料之步骤;其中该放射线硬化型树脂系选 自于聚酯树脂、聚醚树脂、丙烯酸树脂、环氧树 脂、醇酸树脂、聚丁二烯树脂、苯乙烯缩醛树脂 、胺甲酸酯树脂、多官能化合物、低聚物、预聚 物,单官能单体、多官能单体。12.如申请专利范围 第11项之填料透镜的制造方法,其中加压介质是一 种球状物。13.如申请专利范围第11项之填料透镜 的制造方法,其中填料在平面方向以高密度且单层 的方式埋入。14.如申请专利范围第11至13项中任一 项之填料透镜的制造方法,其中填料埋在黏合层中 之部份,为其直径10~90%。图式简单说明: 第1图,以本发明的制造方法制得的一种粉体皮膜 或填料透镜模式之切面图。 第2图,进行本发明的制造方法时适当的助振装置 之正切面图。 第3图,将试验品1的粉体皮膜之平面(a)及切面(b)以 2000倍显示的显微镜相片。 第4图,将试验品2的粉体皮膜之平面(a)及切面(b)以 2000倍显示的显微镜相片。 第5图,将试验品3的粉体皮膜之平面(a)及切面(b)以 1000倍显示的显微镜相片。 第6图,将试验品4的粉体皮膜之平面(a)及切面(b)以 1000倍显示的显微镜相片。 第7图,将试验品5的粉体皮膜之平面(a)及切面(b)以 2000倍显示的显微镜相片。 第8图,将试验品6的粉体皮膜之平面(a1)以150倍显示 ,以及将平面上粉体的紧密部份(a2)以1500倍显示的 显微镜相片。 第9图,将试验品6的粉体皮膜之平面上,粉体的疏松 部份(a3)以及切面(b)以1500倍显示的显微镜相片。 第10图,将试验品7的填料-透镜之平面以(a)1000倍、( b)2000倍、(c)5000倍显示的显微镜相片。 第11图,将试验品7的填料-透镜之切面以(a)2000倍、( b)5000倍显示的显微镜相片。 第12图,将试验品8的填料-透镜之平面以(a)1000倍、( b)2000倍、(c)5000倍显示的显微镜相片。 第13图,将试验品8的填料-透镜之切面以(a)2000倍、( b)5000倍显示的显微镜相片。 第14图,说明填料透镜之光散射性的图,表示全光线 扩散透过率及全光线扩散反射率的模式图。 第15图,说明光散射性的测定方法之图,表示(a)全光 线扩散透过率、(b)全光线扩散反射率的测定方法 之模式图。 第16图(a)、(b)分别为本发明的填料-透镜应用于液 晶显示器之例子,表示的模式切面图。 第17图,以前的填料-透镜之一种应用例,表示的模 式切面图。
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