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发明名称 ION-BEAM DEPOSITION PROCESS FOR MANUFACTURING MULTILAYERED ATTENUATED PHASE SHIFT PHOTOMASK BLANKS
摘要
申请公布号 EP1381918(A2) 申请公布日期 2004.01.21
申请号 EP20020764272 申请日期 2002.04.19
申请人 E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY 发明人 CARCIA, PETER, FRANCIS;DIEU, LAURENT
分类号 C23C14/06;C23C14/46;G03F1/00;H01L21/027;(IPC1-7):G03F1/00;C23C14/00;G03F1/08 主分类号 C23C14/06
代理机构 代理人
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