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In EUV-Lithographiegeräten werden unerwünschte Strahlungsanteile mittels Absorptionsfilter unterdrückt. Filterinhomogenitäten, d. h., Defekte in Filtern selbst oder Kontaminationen auf der Filteroberfläche bzw. Stützstrukturen, führen zu Belichtungsfehlern. Um die bei Lithographiegeräten, die nach dem "step and scan"- oder dem "step and repeat"-Prinzip arbeiten, zu vermeiden, wird vorgeschlagen, daß in fester Korrelation zur Bewegung anderer Lithographiekomponenten eine Relativbewegung zwischen Filter und Strahl durchgeführt wird.
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