| 发明名称 | 对紫外线稳定的聚合结构 | ||
| 摘要 | 公开了对紫外线稳定的耐候多层结构，所述结构包含一层在紫外线辐射下降解的聚合物基体层，至少一层基于2，2，4，4-四甲基-1，3-环丁二醇基聚碳酸酯和有效量的紫外线吸收化合物的紫外防护剂层。所述UV吸收化合物为苯并三唑、二聚苯并三唑、三嗪、氧氮杂萘酮或二苯酚氰基丙烯酸酯。 | ||
| 申请公布号 | CN1134341C | 申请公布日期 | 2004.01.14 |
| 申请号 | CN00809413.6 | 申请日期 | 2000.04.18 |
| 申请人 | 伊斯曼化学公司 | 发明人 | D·R·发格布尔格 |
| 分类号 | B32B27/18;B32B27/36 | 主分类号 | B32B27/18 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 谭明胜 |
| 主权项 | 1.一种对紫外线稳定的结构，所述结构包含：(a)紫外线保护层，所述保护层包括2，2，4，4-四甲基-1，3-环丁二醇基聚碳酸酯和紫外线吸收化合物，所述紫外线吸收化合物选自苯并三唑、二聚苯并三唑、三嗪、氧氮杂萘酮和二苯酚氰基丙烯酸酯；和(b)基体层，所述基体层包含在紫外线辐射下会降解的聚合物。 | ||
| 地址 | 美国田纳西州 | ||