| 发明名称 | 金属层蚀刻制造过程腐蚀水洗预防法 | ||
| 摘要 | 本发明提出一种用水洗防止金属层蚀刻制造过程中该金属层腐蚀的方法，适用在一透明基板上形成一薄膜晶体管，包括下列步骤：在该透明基板上形成该薄膜晶体管的一栅极；在该透明基板上沉积及蚀刻一金属层以形成该薄膜晶体管的一源极和一漏极；和在该蚀刻步骤后立即对于该透明基板进行水洗以防止该金属层受到腐蚀。 | ||
| 申请公布号 | CN1466012A | 申请公布日期 | 2004.01.07 |
| 申请号 | CN02141286.3 | 申请日期 | 2002.07.05 |
| 申请人 | 友达光电股份有限公司 | 发明人 | 陈世坤;李孝忠;侯建州;郭行健 |
| 分类号 | G02F1/136;H01L21/336;G03F7/36 | 主分类号 | G02F1/136 |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 杨梧;马高平 |
| 主权项 | 1.一种用水洗防止金属层蚀刻制造过程中该金属层腐蚀的方法，适用在一透明基板上形成一薄膜晶体管，包括下列步骤：在该透明基板上沉积一金属层，并蚀刻该金属层以限定一栅极；和在该蚀刻步骤后立即对该透明基板进行水洗以防止该金属层受到腐蚀。 | ||
| 地址 | 台湾省新竹市 | ||