含芳香酸抑制剂的光致抗蚀剂剥离剂/清洁剂组合物

摘要

一种在半导体和微电路制造中从金属和电介质表面除去残留物的剥离和清洁组合物。该组合物是包括有机极性溶剂的含水系统，所述有机溶剂包含以有效抑制量使用的选自芳香羧酸组中的腐蚀抑制剂组分。根据本发明的从金属和电介质表面除去残留物的方法包括将金属或电介质表面与上述抑制组合物接触足够的一段时间以除去残留物的步骤。

主权项

1.一种用于从金属、金属合金或电介质表面上除去残留物的酸性或碱性剥离和清洁组合物，所述组合物包括水及有机极性溶剂，其改进措施包括所述组合物具有有效量的选自以下组中的芳香羧酸腐蚀抑制剂：苯甲酸、苯甲酸铵、邻苯二甲酸、邻苯二甲酸酐、间苯二酸及其混合物，所述组合物不含氧化剂。