发明名称 便于有机材料经由沉积罩进行沉积之对准装置
摘要 一种让沉积罩在相对于基底处能让有机材料便于沉积到基底上的对准装置,该基底是有机发光装置的一部分,包括具有第一组对准脚与第二组对准脚的基底层;扣住基底层的平板;具有对准于该平板之开口的框架,该框架是用对应到第一组对准脚位置之第一组对准脚接收孔来形成,使得该框架是以可拆除的方式被安置在基底层上;沉积罩系位于该平板上;接触到第二组对准脚与沉积罩的透明平板,其被制作成大小可曝露出部分的沉积罩;以及将沉积罩的曝露部份固定到框架上。
申请公布号 TW569306 申请公布日期 2004.01.01
申请号 TW091109344 申请日期 2002.05.06
申请人 柯达公司 发明人 汤玛斯 肯扬 克拉克
分类号 H01L21/20 主分类号 H01L21/20
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路二○一号七楼
主权项 1.一种让沉积罩在相对于基底处能让有机材料便于沉积到基底上的对准装置,该基底,包括:(a)具有第一组对准脚与第二组对准脚的基底层;(b)固定到基底层的平板;(c)具有对准于该平板之开口的框架,该框架是用对应到第一组对准脚位置之第一组对准脚接收孔来形成,使得该框架是以可拆除的方式被安置在基底层上;(d)位于该平板上之沉积罩;(e)接触到第二组对准脚与沉积罩的透明平板,且其制成大小可沉积罩曝露出部分;以及(f)将沉积罩曝露的部分固定框架上的装置。2.如申请专利范围中第1项之装置,其中该第一组对准脚包括二个间隔开的对准脚,其位置是要对准相对于基底层以及平板的框架。3.如申请专利范围中第2项之装置,其中该框架包括四个间隔开的切割部分,而且在四个切割部分的其中三个切割部分内,第二组对准脚延伸到超出框架的表面以外,以便咬合住该平板,其中在第二组对准脚中至少有二对准脚是位于切割部分内,以便咬合住该平板的二分隔边缘。4.如申请专利范围中第3项之装置,其中该框架包括对准线,给沉积罩边缘的定位用,以便正确的对准到平板上的此沉积罩。5.如申请专利范围中第4项之装置,其中该透明平板以及沉积罩包括基准线标记,该基准线标记也会在准时便于正确的将沉积罩对准到框架。6.如申请专利范围中第1项之装置,进一步包括在框架内的复数个磁铁,其中该沉积罩包括磁性材料。7.一种利用申请专利范围第1项之对准装置而将有机材料沉积到基底上的方法,包括的步骤有:(a)依序从该装置中移除透明平板与框架,使得框架具有被安置在开口中的沉积罩;(b)定位该框架而让沉积罩接触到基底,并提供磁性平板,该磁性平板施加磁场到沉积罩而固定到基底上;以及(c)经由沉积罩而将有机材料沉积到基底上。8.一种利用申请专利范围第5项之对准装置而将有机材料沉积到基底上的方法」包括的步骤有:(a)依序从该装置中移除透明平板与框架,使得框架具有被安置在开口中的沉积罩;(b)定位该框架而让沉积罩接触到基底,并施加磁场到沉积罩而固定到基底上;以及(c)经由沉积罩而将有机材料沉积到基底上。图式简单说明:图1是依据本发明沉积罩之对准装置的爆炸分解图;图2是图1对准装置的顶视图;图3是图2中沿割线3-3的剖示图;图4显示出本发明另一实施例包括复数个磁铁的框架;以及图5是经由相对于基底而定位之沉积罩将有机材料沉积到OLED基底上的示意图。
地址 美国