发明名称 | 具有多量子阱结构的发光二极管 | ||
摘要 | 本实用新型公开一种GaN基多量子阱蓝光发光二极管,该二极管的多量子阱结构包括:p型掺杂的AlGaN层;n型掺杂的AlGaN层;及在AlGaN层之间的由不掺杂的GaN层与不掺杂的InGaN层组成的N个量子阱;还包括在p型掺杂的AlGaN层与N个量子阱之间的不掺杂的GaN隔离层及在n型掺杂的AlGaN层与N个量子阱之间的不掺杂的GaN隔离层,通过合理调整GaN隔离层的厚度,可以有效地调整p-n结的位置,使之位于多量子阱区域,有效增强发光二极管的发光强度。 | ||
申请公布号 | CN2596557Y | 申请公布日期 | 2003.12.31 |
申请号 | CN02289266.4 | 申请日期 | 2002.11.22 |
申请人 | 中国科学院物理研究所 | 发明人 | 陈弘;于洪波;周均铭;贾海强;韩英军;黄绮 |
分类号 | H01L33/00;H01S5/00 | 主分类号 | H01L33/00 |
代理机构 | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人 | 王凤华 |
主权项 | 1、一种具有多量子阱结构的发光二极管,包括多量子阱结构;在所述多量子阱结构之上的p型掺杂的GaN层、透明电极及p型欧姆接触;在所述多量子阱结构之下的n型掺杂的GaN层、GaN缓冲层、n型欧姆接触及衬底;其特征在于:该多量子阱结构包含N个量子阱,该N个量子阱之上形成有不掺杂的第一GaN隔离层,在该N个量子阱之下形成有不掺杂的第二GaN隔离层,该两个GaN隔离层的厚度为大于0nm且小于500nm之间的任意值。 | ||
地址 | 100080北京市海淀区中关村南三街8号 |