高压处理装置和高压处理方法

摘要

本发明涉及高压处理装置和高压处理方法，不仅简单地从供给喷嘴(13、13)向基板(W)的表面供给处理流体，而且由各个供给喷嘴13供给的处理流体的流动方向(R1，R1)，在基板(W)表面内相互错开。因此，在基板(W)的表面上，形成处理流体的旋转流(TF)，处理流体与基板(W)的表面接触，进行规定的表面处理(洗净处理，第一次冲洗处理，第二次冲洗处理，干燥处理等)。

主权项

1.一种高压处理装置，其以高压流体或高压流体和药剂的混合物作为处理流体，使之与被处理体表面接触，对所述被处理体表面进行规定的表面处理，其特征为，其具有：在内部具有用于进行所述表面处理的处理腔的压力容器；在所述处理腔内保持被处理体的保持装置；以及将处理流体导入所述处理腔中并向所述被处理体表面供给处理流体的多个导入装置。