| 发明名称 |
ABRASIVE PARTICLES TO CLEAN SEMICONDUCTOR WAFERS DURING CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
AU2003238888(A1) |
申请公布日期 |
2003.12.22 |
| 申请号 |
AU20030238888 |
申请日期 |
2003.06.05 |
| 申请人 |
ARIZONA BOARD OF REGENTS;BEAUDOIN, STEPHEN |
发明人 |
STEPHEN BEAUDOIN |
| 分类号 |
C09G1/02;C09K3/14;H01L21/306;(IPC1-7):C09G1/02;H01L21/302 |
主分类号 |
C09G1/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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