| 主权项 |
1.一种含有支撑基底材质及黏合剂之黏性带,其中该支撑基底材质为由熔融状态具有光学各向异性之液晶聚合物组成之膜,而该液晶聚合物为将芳族二羧酸、芳族二醇,及芳族羟基羧酸反应而制得,或将不同种类之芳族羟基羧酸反应而制得之液晶聚酯。2.如申请专利范围第1项之黏性带,其中由熔融状态具有光学各向异性之液晶聚合物组成的膜持续可用之耐热温度为120℃或以上,此处持续可用之耐热温度意指于膜模制之机械(MD)方向之断裂抗拉强度经40000小时处理后,减少为一半之温度。3.如申请专利范围第1或2项之黏性带,其中由熔融状态具有光学各向异性之液晶聚合物组成的膜之耐焊温度为250℃或以上,此处耐焊温度意指该膜于加热之焊浴中经10秒钟处理而不展现收缩及热降解(具气泡室)之温度上限。4.如申请专利范围第1或2项之黏性带,其中由熔融状态具有光学各向异性之液晶聚合物组成的膜之水蒸气透过性在1.0g/m224hr以下。5.如申请专利范围第1或2项之黏性带,其中于熔融状态具有光学各向异性之该液晶聚合物为全芳族液晶聚酯。6.如申请专利范围第1或2项之黏性带,其中由熔融状态具有光学各向异性之液晶聚合物组成的膜之表面自由能在35dyne/cm以上。7.如申请专利范围第1或2项之黏性带,其中由熔融状态具有光学各向异性之液晶聚合物组成的膜中,纵向为膜模制之机械方向(MD),在膜平面内与其呈直角相交的方向为膜模制之横截方向(TD)。8.如申请专利范围第1或2项之黏性带,其中于熔融状态具有光学各向异性之液晶聚合物为含有下列成分之液晶聚酯树脂组成物:(A)为连续相之液晶聚酯,及(B)为分散相、具有可与液晶聚酯反应的官能基之共聚物。9.如申请专利范围第8项之黏性带,其中于熔融状态具有光学各向异性之液晶聚合物为由(A)56.0至99.9重量%液晶聚酯及(B)44.0至0.1重量%具有可与液晶聚酯反应的官能基之共聚物熔融混练获得之组成物。10.如申请专利范围第8项之黏性带,其中可与液晶聚酯反应的官能基为环氧基、唑基或胺基。11.如申请专利范围第8项之黏性带,其中具有可与液晶聚酯(B)反应的官能基之共聚物为含有0.1至30重量%不饱和羧酸缩水甘油酯单元及/或不饱和缩水甘油醚单元之共聚物。12.如申请专利范围第8项之黏性带,其中具有可与液晶聚酯(B)反应的官能基之共聚物为其有环氧基之橡胶。13.如申请专利范围第8项之黏性带,其中具有可与液晶聚酯(B)反应的官能基之共聚物为具有环氧基之热塑性树脂。14.如申请专利范围第1或2项之黏性带,其中该黏性带含有丙烯基基底黏合剂作为主要成分。15.如申请专利范围第1或2项之黏性带,其中该黏性带含有矽酮基底黏合剂作为主要成分。16.如申请专利范围第14项之黏性带,其中该丙烯基基底黏合剂为共聚物。17.如申请专利范围第1或2项之黏性带,其中由熔融状态具有光学各向异性之液晶聚合物组成的膜为利用吹气成膜法制得之膜。 |
