| 发明名称 |
Process for etching a polycristalline Si1-xGex layer or stacked layers of polycristalline Si1-xGex and Si, and application to electronic devices |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0905759(B1) |
申请公布日期 |
2003.12.17 |
| 申请号 |
EP19980401433 |
申请日期 |
1998.06.12 |
| 申请人 |
FRANCE TELECOM |
发明人 |
MONGET, CEDRIC;VALLON, SOPHIE;JOUBERT, OLIVIER |
| 分类号 |
H01L21/3065;H01L21/302;H01L21/28;H01L21/3213;(IPC1-7):H01L21/321 |
主分类号 |
H01L21/3065 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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