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发明名称 METHOD FOR CLEANING OF PROCESSING CHAMBER IN SEMICONDUCTOR PROCESSING APPARATUS
摘要
申请公布号 KR20030091941(A) 申请公布日期 2003.12.03
申请号 KR20037006735 申请日期 2003.05.19
申请人 发明人
分类号 H01L21/205;C23C16/44;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/31 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
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