| 主权项 |
1.一种制造供资料记录媒体用之基底的方法,包括的步骤有:在片状起始材料玻璃板的至少一个表面上,进行表面研磨处理;其中该表面研磨处理是只包括精确研磨处理,使用具第一预设颗粒直径的细研磨颗粒。2.一种制造供资料记录媒体用之基底的方法,包括的步骤有:在片状起始材料玻璃板的至少一个表面上,进行表面研磨处理;其中该表面研磨处理是只包括预先研磨处理与精确研磨处理,其中该精确研磨处理是使用具第一预设颗粒直径的超细研磨颗粒,而该预先研磨处理是使用具第二预设颗粒直径的超细研磨颗粒,该第二预设颗粒直径是大于第一预设颗粒直径。3.如申请专利范围中第1项或第2项之方法,其中该第一预设颗粒直径是让平均颗粒直径不小于1.3m且90%的体积颗粒尺寸分布直径不小于3.5m。4.如申请专利范围中第1项或第2项之方法,其中该第一预设颗粒直径是让平均颗粒直径不小于0.01m且90%的体积颗粒尺寸分布直径不小于0.02m。5.如申请专利范围中第2项之方法,其中该第二预设颗粒直径是让平均颗粒直径是在0.3m至5m的范围内且90%的体积颗粒尺寸分布直径是在1m至15m的范围内。6.如申请专利范围中第1.2或5项中任一项之方法,其中用波长频带分类的复数个表面波浪型是在该起始材料玻璃板至少一个表面上以相互重叠的方式形成,而且在表面波浪型中所形成的波长频带最高的长波长波浪是不小于6nm。7.如申请专利范围中第6项之方法,其中该长波长波浪是不小于0.4nm。8.如申请专利范围中第6项之方法,其中该起始材料玻璃板的形成是让表面波浪型中所形成的波长频带最低的短波长波浪是在0.1nm至0.7nm的范围内,而表面波浪型中所形成的波长频带在长波长波浪之波长频带与短波长波浪之波长频带间的中波长波浪是在0.25nm至2nm的范围内。9.如申请专利范围中第1.2或5项中任一项之方法,其中该起始材料玻璃板是从玻璃丝带而制造出来,该玻璃丝带是在预设温度状态下,将玻璃原始材料倒到熔融锡上而形成。10.如申请专利范围中第1.2或5项中任一项之方法,其中该表面研磨处理内,从该起始材料玻璃板的至少一个表面中的研磨量是在1m至75m的范围内。11.如申请专利范围中第10项之方法,其中该表面研磨处理内从该起始材料玻璃板的至少一个表面中的研磨量是在1m至25m的范围内。12.如申请专利范围中第1.2或5项中任一项之方法,其中该表面研磨处理中使用到的超细研磨颗粒包含至少一种由氧化硒,氧化铝,氧化锆,氧化矽与氧化锰所构成之群组中所选取出之基底。13.如申请专利范围中第12项之方法,其中该表面研磨处理中使用到的该超细研磨颗粒包括氧化硒。14.一种藉申请专利范围中第1.2或5项中任一项之方法所制造的供资料记录媒体用之基底,其中由波长频带来分类的复数个表面波浪型是在该起始材料玻璃板至少一个表面上以相互重叠的方式形成。15.如申请专利范围中第14项之供资料记录媒体用之基底,其中波长频带最高的长波长波浪是不超过1.2nm,波长频带最低的短波长波浪是不超过0.6nm,而波长频带在长波长波浪之波长频带与短波长波浪之波长频带间的中波长波浪是不超过0.9nm。16.如申请专利范围中第14项之供资料记录媒体用之基底,其中波长频带最高的长波长波浪是不小于0.3nm,波长频带最低的短波长波浪定是不小于0.1nm,而波长频带在长波长波浪之波长频带与短波长波浪之波长频带间的中波长波浪是不小于0.2 nm。17.一种供资料记录媒体用的基底,包括如申请专利范围中第14项之供资料记录媒体用之基底,以及在基底至少一个表面上形成的资料记录层。18.一种具有复数个用波长频带分类之表面波浪型在至少一个表面上以相互重叠方式的起始材料玻璃板;其中波长频带最高的长波长波浪是不超过6nm。19.如申请专利范围中第18项之起始材料玻璃板,其中波长频带最低的短波长波浪是不超过0.7nm,而波长频带在长波长波浪之波长频带与短波长波浪之波长频带间的中波长波浪是不超过2nm。20.如申请专利范围中第18项或第19项之起始材料玻璃板,其中该起始材料玻璃板是从玻璃丝带而制造出来,该玻璃丝带是在高温状态下将玻璃原始材料倒到熔融锡上而形成。图式简单说明:图1是显示出制造供资料记录媒体用之基底的传统方法流程图;图2是传统起始材料玻璃板上表面波浪状态的示意图;图3是在长波长波浪情形下解释磁性读取头与磁碟基底之间关系时很有用的示意图;图4是在中波长波浪或短波长波浪情形下解释磁性读取头与磁碟基底之间关系时很有用的示意图;图5是显示出依据本发明实施例资料记录媒体之主要部分的剖示图;图6是显示出依据本发明实施例制造供资料记录媒体用之基底的流程图;图7是显示出悬浮板玻璃制造装置之结构的示意图;图8是显示出依据本发明另一实施例制造供资料记录媒体用之基底的流程图;以及图9是显示出下拉板玻璃制造装置之结构的示意图。 |
