| 主权项 |
1.一种供记忆硬碟用之磨光用组成物,其特征为该组成物包含以下的组份(a)至(d):(a)水,(b)至少一种选自包含聚苯乙烯磺酸,及其盐类的化合物,(c)选自包含无机酸与有机酸,及其盐类的化合物,除组份(b)之外,及(d)至少一种选自包含氧化铝、二氧化矽、氧化铈、氧化锆、氧化钛、氮化矽及二氧化锰的磨蚀剂。2.如申请专利范围第1项之磨光用组成物,其中,组份(c)系选自包含硝酸、亚硝酸、硫酸、氢氯酸、钼酸、胺基磺酸、胺基醋酸、甘油酸、扁桃酸、丙二酸、抗坏血酸、谷胺酸、二羟醋酸、苹果酸、乙醇酸、乳酸、葡糖酸、琥珀酸、酒石酸与柠檬酸,及其盐类与衍生物。3.如申请专利范围第2项之磨光用组成物,其中,组份(c)系选自包含硝酸铝、硝酸镍、硝酸锂、硝酸钠、硝酸钾、硝酸铁(Ⅲ)、亚硝酸钠、亚硝酸钾、硫酸铝、硫酸镍、硫酸锂、硫酸钠、硫酸铁(Ⅲ)、硫酸铵、氯化铝、氯化铁(Ⅲ)、氯化铵、钼酸钠、钼酸铵、胺基磺酸镍及胺基磺酸铵。4.如申请专利范围第1项之磨光用组成物,其中,组份(d)基于磨光用组成物总重量的含量为0.1至50重量%。5.如申请专利范围第1项之磨光用组成物,其中,组份(c)基于磨光用组成物总重量的含量为0.1至30重量%。6.如申请专利范围第1项之磨光用组成物,其中,组份(b)基于磨光用组成物总重量的含量为0.001至2重量%。7.一种供记忆硬碟用之冲洗用组成物,其特征为该组成物包含以下的组份(a)至(c):(a)水,(b)至少一种选自包含聚苯乙烯磺酸,及其盐类的化合物,(c)选自包含无机酸与有机酸,及其盐类的化合物,除组份(b)之外。8.如申请专利范围第7项之冲洗用组成物,其中,组份(c)系选自包含硝酸、亚硝酸、硫酸、氢氯酸、钼酸、胺基磺酸、胺基醋酸、甘油酸、扁桃酸、丙二酸、抗坏血酸、谷胺酸、二羟醋酸、苹果酸、乙醇酸、乳酸、葡糖酸、琥珀酸、酒石酸与柠檬酸,及其盐类与衍生物。9.如申请专利范围第8项之冲洗用组成物,其中,组份(c)系选自包含硝酸铝、硝酸镍、硝酸锂、硝酸钠、硝酸钾、硝酸铁(Ⅲ)、亚硝酸钠、亚硝酸钾、硫酸铝、硫酸镍、硫酸锂、硫酸钠、硫酸铁(Ⅲ)、硫酸铵、氯化铝、氯化铁(Ⅲ)、氯化铵、钼酸钠、钼酸铵、胺基磺酸镍及胺基磺酸铵。10.如申请专利范围第7项之冲洗用组成物,其中,组份(c)基于冲洗用组成物总重量的含量为0.1至30重量11.如申请专利范围第7项之冲洗用组成物,其中,组份(b)基于冲洗用组成物总重量的含量为0.001至2重量%。 |
