发明名称 METHOD FOR PRODUCING A SEMICONDUCTOR COMPONENT, AND SEMICONDUCTOR COMPONENT PRODUCED BY THE SAME
摘要 <p>Für ein Halbleiter-Bauelement mit einer zumindest annähernd T-förmigen Elektrode wird ein Verfahren zur Erzeugung eines präzise skalierbaren Gatekopfes und zur Verringerung parasitärer Kapazitäten angegeben.</p>
申请公布号 WO2003096399(P1) 申请公布日期 2003.11.20
申请号 EP2003003979 申请日期 2003.04.16
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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