| 发明名称 | 化学制剂供给装置 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种化学制剂供给装置，该装置包括：第一个槽，其中至少有两种由供给槽提供的化学制剂被混合起来；循环装置，用于对第一槽中的化学制剂进行循环并使之均匀混合；第二个槽，用于存储由第一槽提供的混合溶液；分配器，用于对混合溶液进行分配以向各处理单元提供混合溶液；以及加热单元，它安装在为分配器供给混合溶液的供给管上，用于加热混合溶液。 | ||
| 申请公布号 | CN1456709A | 申请公布日期 | 2003.11.19 |
| 申请号 | CN03128555.4 | 申请日期 | 2003.05.09 |
| 申请人 | 韩国DNS株式会社 | 发明人 | 裵正龙;安斗根 |
| 分类号 | C23F1/08;H01L21/306;H01L21/465;B01F15/04 | 主分类号 | C23F1/08 |
| 代理机构 | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 余朦;张耀山 |
| 主权项 | 1.一种化学制剂供给装置，包括：第一个槽，其中至少有两种由供给槽提供的化学制剂被混合起来；循环装置，用于对第一槽中的化学制剂进行循环并使之均匀混合；第二个槽，用于存储由第一槽提供的混合溶液；分配器，用于对混合溶液进行分配以向各处理单元提供混合溶液；以及加热单元，它安装在为分配器供给混合溶液的供给管上，用于加热混合溶液。 | ||
| 地址 | 韩国忠清南道天安市 | ||