光刻装置、器件制造方法及其制得的器件

摘要

光刻投射装置1具有至少两个基底保持器WT1、WT2，包括减小由两基底保持器间差异引起成像差异的影响的装置。装置1包括内部的或外部的用于识别基底和将其与各自的一个基底保持器相联系的装置。从而，该装置确保在适当的基底保持器上加工该基底或者对成像进行修正。在另一个实施方案中，基底与各自的一个基底保持器相联系并且始终用该基底保持器加工而无需另外的识别步骤。

主权项

1.一种光刻投射装置，包括：用于提供辐射投射光束的辐射系统；用于支撑图案化装置的支撑结构，所述图案化装置用于根据所需的图案对投射光束进行图案化；用于保持基底的第一基底保持器；用于保持基底的第二基底保持器；用于将已图案化的光束投射到基底的靶部上的投射系统；其特征在于，所述装置还包括控制成像装置，这样，当将第二图案成像到其上已经成像有第一图案的基底上时，减小了两基底保持器间差异的影响。