| 发明名称 | 流体压力刻印光刻技术 | ||
| 摘要 | 一种改善的刻印光刻方法包括使用定向流体压力把模型压入一衬底支撑的薄膜(A)中。最好是模型和/或衬底足够地有弹性以在流体压力(C)下提供广的区域接触。流体加压可以通过使模型相对于薄膜密封并在加压腔中放置最终的组件而实现。它也可以通过使模型经受加压流体的喷射而实现。该流体加压的结果是扩大区域上增强的分辨率和高均匀性。 | ||
| 申请公布号 | CN1457505A | 申请公布日期 | 2003.11.19 |
| 申请号 | CN01812944.7 | 申请日期 | 2001.07.02 |
| 申请人 | 纳诺尼克斯公司 | 发明人 | 斯蒂芬·Y·周 |
| 分类号 | H01L21/302;H01L21/461;H01L21/311 | 主分类号 | H01L21/302 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王永刚 |
| 主权项 | 1.一种处理衬底表面的方法包括步骤：在衬底的表面提供一可塑层；提供压模表面具有多个突出特征的一模型；用定向流体压力把压模表面和模制层压在一起以减小突出特征下面的可塑层的厚度从而产生减小厚度的区域；以及从可塑层撤走模型。 | ||
| 地址 | 美国新泽西 | ||