用于改善光刻装置中线宽控制的系统和方法

摘要

电磁能量从光刻装置的照明光源发射。发射的电磁能量的一部分，通过照明光学模块。照明光学模块包括具有光瞳平面的一维光学变换单元。有可调整孔径的孔径装置，位置邻近于该光瞳平面，使该一维光学变换单元接收的一部分电磁能量，通过孔径装置的孔径。用该孔径装置把通过照明光学模块的电磁能量角分布，作为照明场位置的函数而调整，从而改善光刻装置中的线宽控制。

主权项

1.一种光刻装置，包括：照明光源；接收所述照明光源发射的电磁能量的照明光学模块，所述照明光学模块有部分相干性调整器模块，该部分相干性模块包含：有光瞳平面的一维光学变换单元，和有孔径的孔径装置，用于改变进入所述一维光学变换单元的沿光轴的电磁能量角分布，所述孔径装置的孔径，位置邻近于所述一维光学变换单元的光瞳；位置邻近于所述照明光学模块的掩模版台，其中，从所述照明光学模块出射的电磁能量，照亮所述掩模版台夹持的掩模版的一部分；晶片台；和像平面邻近于所述晶片台的投影光学模块，所述投影光学模块，位置邻近于所述掩模版台并邻近于所述晶片台，其中，通过所述掩模版台夹持的掩模版的电磁能量，进入所述投影光学模块，并被所述投影光学模块成像在所述晶片台夹持的晶片光敏基片上，和其中，调整所述孔径装置的孔径形状，以控制邻近于所述晶片台的像平面上的电磁能量角分布。