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发明名称
具氮化物肩部高敏感度之自我对位接触蚀刻
摘要
一种蚀刻半导体和介电质基板之方法和装置,系利用具有化学式CaFb之第一气体和具有化学式CxHyFz之第二气体之混合为主的电浆,其中a/b≧2/3,且其中x/z≧1/2。此混合气体可在磁性增强反应式离子反应室中维持较低或中间程度的电浆密度以提供绝佳角落镀层选择性,光阻层选择性,底部镀层选择性,及外部轮廓和底部特征尺寸控制的制程。第一和第二气体之分配比例可在蚀刻时加以改变以提供蚀刻未掺杂氧化层薄膜或在此类薄膜上提供蚀刻中止之电浆。
申请公布号
TW200305947
申请公布日期
2003.11.01
申请号
TW091136022
申请日期
2002.12.12
申请人
应用材料股份有限公司
发明人
阿杰M 乔西;詹姆士A 史堤奈特;普曼爱格尼斯倪;巫萨玛达度;强森M 瑞基斯
分类号
H01L21/3065
主分类号
H01L21/3065
代理机构
代理人
蔡坤财
主权项
地址
美国
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