| 发明名称 |
SINGLE STEP CHEMICAL MECHANICAL POLISH PROCESS TO IMPROVE THE SURFACE ROUGHNESS IN MRAM TECHNOLOGY |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
EP1356526(A1) |
申请公布日期 |
2003.10.29 |
| 申请号 |
EP20020723084 |
申请日期 |
2002.01.24 |
| 申请人 |
INFINEON TECHNOLOGIES NORTH AMERICA CORP. |
发明人 |
LOW, KIA SENG |
| 分类号 |
H01L21/321;H01L21/8246;H01L27/22;(IPC1-7):H01L27/22;H01L21/824 |
主分类号 |
H01L21/321 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
