发明名称 | 半导体激光器件 | ||
摘要 | 一种半导体激光器件具有n型GaAs衬底1支撑的依次形成的n型AlGaAs第一盖层2,多重量子阱有源层3和p型AlGaAs第二盖层4。多重量子阱有源层3具有两个量子阱层3a和设置在每一量子阱层3a两侧的垒层3b。每一量子阱层3a由In<SUB>1-V1</SUB>Ga<SUB>V1</SUB>As<SUB>1-W1</SUB>P<SUB>W1</SUB>构成,每一垒层3b由In<SUB>1-V2</SUB>Ga<SUB>V2</SUB>As<SUB>1-W2</SUB>P<SUB>W2</SUB>构成。这里,V1和V2满足V1<V2,W1和W2满足W1<W2。垒层相对于GaAs衬底具有张应变,阱层相对于GaAs衬底具有压应变。 | ||
申请公布号 | CN1452285A | 申请公布日期 | 2003.10.29 |
申请号 | CN03130783.3 | 申请日期 | 2003.01.28 |
申请人 | 夏普公司 | 发明人 | 河西秀典;山本圭;厚主文弘;藤城芳江;吉田智彦 |
分类号 | H01S5/323;H01S5/343 | 主分类号 | H01S5/323 |
代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 陶凤波;侯宇 |
主权项 | 1.一种半导体激光器件,其具有由第一导电类型的GaAs衬底支撑并依次形成的第一导电类型的第一盖层、有源层和第二导电类型的第二盖层,所述层中的每一层均由III-V族化合物半导体构成,该有源层具有至少一个阱层和一些垒层,该垒层具有大于该阱层的能隙,该阱层被置于该垒层之间,其中该阱层和垒层每层都包含作为V族元素的P和As及作为III族元素的Ga和In;该垒层中的V族元素中P的比例大于阱层中的V族元素中P的比例;该垒层中的III族元素中In的比例小于阱层中的III族元素中In的比例;该垒层具有相对于GaAs衬底的张应变;该阱层具有相对于GaAs衬底的压应变;以及该半导体激光器件具有约780nm的发射波长。 | ||
地址 | 日本大阪府 |