发明名称 Reinigungsflüssigkeit für die Herstellung von Halbleiter-Anordnungen und Verfahren zur Herstellung von Halbleiter-Anordnungen unter Verwendung derselben
摘要
申请公布号 DE69724892(D1) 申请公布日期 2003.10.23
申请号 DE1997624892 申请日期 1997.07.30
申请人 MITSUBISHI GAS CHEMICAL CO., INC. 发明人 TORII, YOSHIMI;SASABE, SHUNJI;KOJIMA, MASAYUKI;USUAMI, KAZUHISA;TOKUNAGA, TAKAFUMI;HARA, KAZUSATO;OHIRA, YOSHIKAZU;MATSUI, TSUYOSHI;GOTOH,HIDETO;AOYAMA, TETSUO;HASEMI, RYUJI;IKEDA, HIDETOSHI;ISHIHARA, FUKUSABURO;SOTOAKA, RYUJI
分类号 C11D7/60;G03F7/42;H01L21/02;H01L21/302;H01L21/304;H01L21/3065;H01L21/3213;(IPC1-7):H01L21/306;H01L21/321;H01L21/311 主分类号 C11D7/60
代理机构 代理人
主权项
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