| 主权项 |
1.一种组成物,其包含(a)一有效量之客体发色团包埋于主体发色团基质中,或(b)一主体发色团和一有效量之客体发色团均包埋于聚合物基质中,其中客体发色团之吸收光谱与主体发色团的萤光发射光谱重叠,及其中主体发色团系选自式Ⅵ之苯并[4,5]咪唑并[2,1-a]异氮-11-酮类其中R17及R20为H,且R18及R19或两者同时为C1至C6烷基或C1至C6烷氧基,或R17共同与R18且R19共同与R20意为-CH=CR24-CR25=CH-,其中R24及R25为H,或式Ⅵa之[4,5]咪唑并[2,1-a]异氮-11-酮类其中X1为C1,R'18及R'19之一个或两者分别为-COOH,或-或,-分枝的C3至C8烷基或Ra-C(O)-,其中Ra代表苯基,且其中该客体发色团系选自啶酮、北、二酮咯并咯及若丹明所组成之族群中,且其中该客体发色团的有效量系选自相对于主体及客体发色团总量之0.001至30重量%的范围内,其中(a)客体发色团均质地分布于主体发色团基质中,或(b)主体发色团和客体发色团均为均质地分布于聚合物基质中。2.一种制备根据申请专利范围第1项组成物之方法,该组成物包含主体发色团及客体发色团及若需要之聚合物基质,其中客体发色团之吸收光谱与主体发色团的萤光发射光谱重叠,其特征在于(a)选择主体发色团自式Ⅵa之苯并[4,5]咪唑并[2,1-a]异氮-11-酮其中R17及R20为H,且R18及R19或两者同时为C1至C6烷基或C1至C6烷氧基,或R17共同与R18且R19共同与R20意为-CH=CR24-CR25=CH-,其中R24及R25为H,或式Ⅵa之[4,5]咪唑并[2,1-a]异氮-11-酮类其中X1为C1,R'18及R'19之一个或两者分别为-COOH,或-或,-分枝的C3至C8烷基或Ra-C(O)-,其中Ra代表苯基。(b)于存有溶剂下混合主体发色团及有效量之至少一种客体发色团,及选择性之聚合物或可聚合前体,及(c)沈淀主体和客体发色团,选择地在存有步骤(b)之聚合物时,或(d)于步骤(b)之聚合物前体期间沈淀主体和客体发色团。3.一种可聚合组成物,其包含可聚合单体或预聚物,其与呈含有粒子之粉末形式之根据申请专利范围第1项之组成物混合,或与根据申请专利范围第1项之组成物中之主体和客体发色团混合,或同时与上述两者混合。4.根据申请专利范围第3项之可聚合组成物,其中该可聚合单体或预聚物系溶解于呈含有粒子之粉末形式之根据申请专利范围第1项之组成物或根据申请专利范围第1项之组成物中之主体和客体发色团中。5.一种包含载体材料及高浮凸影像之经聚合光阻剂材料之组成物,其含有呈含有粒子之粉末形式之根据申请专利范围第1项之组成物,或根据申请专利范围第1项之组成物中之主体及客体发色团,或同时含有上述两者,若需要时为溶解及/或均质地分布于其中。6.一种制备于载体萤光高浮凸影像之方法,其特征在于光罩下辐射或藉由雷射刻写于载体上的经涂覆之根据申请专利范围第3项之光可聚合组成物,显像经辐射组成物,及最后移除非经辐射部位。7.根据申请专利范围第6项之方法,其中该经涂覆之光可聚合组成物系被乾燥且移除溶剂。8.根据申请专利范围第1项之组成物,其系用为萤光材料。9.一种化合物,其特征在于其相对应于式Ⅵ其中R17及R20为H,及R18及R19或两者同时为C1至C6烷基或C1至C6烷氧基,且R17共同与R18且R19共同与R20意为-CH=CR24-CR25=CH-,其中R24及R25分别为H。10.一种式Ⅵa化合物其中X1为C1,R′18及R′19中之一个或两者均为-COOH,或-或,-分枝之C3至C8烷基或Ra-C(O)-,其中Ra意为苯基。11.根据申请专利范围第1项之组成物,其系用为有机发射材料及用于制备电冷光(EL)装置。12.一种包含申请专利范围第1项之组成物或申请专利范围第9及10项之化合物之电冷光装置。13.根据申请专利范围第9或10项之化合物,其系用作有机发射材料及用于制备电冷光(EL)装置。 |
