| 主权项 |
1.一种应用于液晶显示器之间隙物整合于晶片上的制造方法,系令正面布局形成有矩阵驱动线路的透明基板于正面涂布光阻,该透明基板包含有由驱动电路定义的不透光区及透光区,以不透光区作为一图案光罩,以及另一与不透光区呈部份重叠的图案光罩,对基板正、反两面各进行一次曝光,将感光光阻去除后即形成间隙子。2.如申请专利范围第1项所述应用于液晶显示器之间隙物整合于晶片上的制造方法,包含下列步骤:准备一透明基板,该透明基板正面形成有矩阵形状的驱动线路,该驱动线路为不透光;涂布一层光阻,系将一正型光阻涂布于该透明基板正面;进行背面曝光,系于该透明基板的背面照射第一道曝光光线,其中透明基板正面的正型光阻对应基板不透光区位置不感光,亦即,定义为一光阻矩阵;进行正面曝光,系以一特定图案光罩,对正透明基板正面的光阻再以进行第二次曝光程序,其中,该图案光罩与该光阻矩阵重叠部份将不会感光;去除光阻,系显影光阻感光部份,令残留的光阻块的厚度即为间隙子。3.如申请专利范围第1项所述应用于液晶显示器之间隙物整合于晶片上的制造方法,包含下列步骤:准备一透明基板,该透明基板正面形成有矩阵形状的驱动线路,该驱动线路为不透光;涂布一层光阻,系将一正型光阻涂布于该透明基板正面;进行正面曝光,系以一特定图案光罩,对正透明基板正面的光阻进行第一次曝光程序,其中,令光阻对应图案光罩的图案位置不会感光;进行背面曝光,系于该透明基板的背面照射第二道曝光光线,上一步骤的不感光光阻与透明基板不透光区重叠位置将不感光;去除光阻,系显影光阻感光部份,保留感光的光阻块,该光阻块的厚度即为间隙子。4.如申请专利范围第2或3项所述应用于液晶显示器之间隙物整合于晶片上的制造方法,该驱动线路包含有薄膜电晶体、储存电容器、资料金属线及扫描金属线,其中该资料金属线及扫描金属线系构成一矩阵形状。5.如申请专利范围第4项所述应用于液晶显示器之间隙物整合于晶片上的制造方法,该透明基板的不透光区进一步由遮光板定义之,该遮光层系形成于驱动电路的薄膜电晶体及金属线边缘位置。6.如申请专利范围第1项所述应用于液晶显示器之间隙物整合于晶片上的制造方法,该透明基板可为玻璃、高分子材质。7.如申请专利范围第1项所述应用于液晶显示器之间隙物整合于晶片上的制造方法,该图案光罩系为多菱形图案。8.一种应用于液晶显示器之间隙物整合于晶片上的制造方法,系令正面布局形成有矩阵驱动线路的透明基板于正面依序涂布一有机或无机材料层及一光阻,该透明基板包含有由驱动电路定义的不透光区及透光区,以不透光区作为一图案光罩,以及另一与不透光区呈部份重叠的图案光罩,对基板正、反两面各进行一次曝光,将感光光阻及其对应感光光阻的有机或无机材料层蚀刻后形成间隙子。9.如申请专利范围第8项所述应用于液晶显示器之间隙物整合于晶片上的制造方法,包含下列步骤:准备一透明基板,该透明基板正面形成有矩阵形状的驱动线路,该驱动线路为不透光;涂布一层透明有机或无机材料层,系涂布于该透明基板正面;涂布一层光阻,系将一正型光阻涂布于该透明有机或无机材料层上;进行背面曝光,系于该透明基板的背面照射第一道曝光光线,将其中透明基板正面的正型光阻对应基板不透光区位置不感光,亦即,定义为一光阻矩阵;进行正面曝光,系以一特定图案光罩,对正透明基板正面的光阻再以进行第二次曝光程序,其中,该图案光罩与该光阻矩阵重叠部份将不会感光;去除感光光阻,系将感光光阻显影去除;形成间隙子,系蚀刻无覆盖有光阻的有机或无机材料层,令残留的有机或无机材料层的厚度即为间隙子。10.如申请专利范围第8项所述应用于液晶显示器之间隙物整合于晶片上的制造方法,包含下列步骤:准备一透明基板,该透明基板正面形成有矩阵形状的驱动线路,该驱动线路为不透光;涂布一层有机或无机材料层,系涂布于该透明基板正面;涂布一层光阻,系将一正型光阻涂布于该有机或无机材料层上;进行正面曝光,系以一特定图案光罩,对正透明基板正面的光阻进行第一次曝光程序,其中,令光阻对应图案光罩的图案位置不会感光;进行背面曝光,系于该玻璃板的背面照射第二道曝光光线,上一步骤的不感光光阻与透明基板不透光区重叠位置将不感光;去除感光光阻,系将感光光阻显影去除;形成间隙子,系蚀刻无覆盖有光阻的有机或无机材料层,令残留的有机或无机材料层的厚度即为间隙子。11.如申请专利范围第9或10项所述应用于液晶显示器之间隙物整合于晶片上的制造方法,该驱动线路包含有薄膜电晶体、储存电容器、资料金属线及扫描金属线,其中该资料金属线及扫描金属线系构成一矩阵形状。12.如申请专利范围第11项所述应用于液晶显示器之间隙物整合于晶片上的制造方法,该透明基板的不透光区进一步由遮光板定义之,该遮光层系形成于驱动电路的薄膜电晶体及金属线边缘位置。13.如申请专利范围第8项所述应用于液晶显示器之间隙物整合于晶片上的制造方法,该透明基板可为玻璃、高分子材质。14.如申请专利范围第8项所述应用于液晶显示器之间隙物整合于晶片上的制造方法,该图案光罩系为多菱形图案。图式简单说明:第一图:系本发明的透明基板的部份侧视图,其揭示一薄膜电晶体及资料、扫描金属线位置。第二图:系本发明的透明基板的部份侧视图,其揭示第一图正面涂布有一光阻层。第三图:系本发明的透明基板的部份侧视图,其揭示进行背面曝光位置。第四图:系本发明的透明基板的部份侧视图,其揭示形成一光阻矩阵。第五图A:系本发明的透明基板的部份侧视图,其揭示形成一光阻矩阵。第五图B:系本发明图案光罩的上视图。第六图:系本发明的透明基板的部份侧视图,其揭示形成一光阻矩阵。第七图:系本发明的一上视图。 |
