| 发明名称 | 用于确定成像系统焦点的方法和设备 | ||
| 摘要 | 通过在光学系统的焦点平面(66)的不同侧面安排具有周期性结构的第一和第二测试物体(62、64)，并且确定在辐射敏感的检测系统(30)的不同区域(32、34)上形成的图像的调制深度之差，从而可以以可靠和准确的方式确定光学系统(20)的焦点。 | ||
| 申请公布号 | CN1882826A | 申请公布日期 | 2006.12.20 |
| 申请号 | CN200480033707.7 | 申请日期 | 2004.11.02 |
| 申请人 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 发明人 | P·F·格里夫;A·比尔斯马;W·J·罗斯尔 |
| 分类号 | G01M11/00(2006.01) | 主分类号 | G01M11/00(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 龚海军;张志醒 |
| 主权项 | 1、一种确定光学系统焦点的方法，所说的方法包括如下步骤：在照明系统和辐射敏感的检测系统之间安排一个光学系统；在照明系统和光学系统之间安排一个测试物体；借助于光学系统在检测系统上成像所说测试物体；以及从测试物体图像的调制深度建立焦点平面的位置，其特征在于：所述安排测试物体的步骤包括在照明系统和光学系统的期望焦点平面之间安排第一测试物体，并且在这个焦点平面和光学系统之间安排第二测试物体，借此使第一和第二测试物体安排在相对于光学系统光轴的不同位置；这种方法的特征还在于：所述建立焦点的步骤包括确定两个测试物体图像中的每个测试物体图像的调制深度并且从一个测试物体图像所获得的调制深度值中减去另一个测试物体图像所获得的调制深度值，从而得到一个差值，这个差值代表相对于两个测试物体位置的焦点位置。 | ||
| 地址 | 荷兰艾恩德霍芬 | ||