阴极溅镀用之装置

摘要

本发明涉及一种阴极溅镀用之装置(8)，其在真空中用来对基板(17)进行镀覆，本装置包含：一待溅射材料之管形载体(2)，其可围绕其纵轴而旋转；一冷却系统，其在与载体(2)外部所配置之冷却装置相连之情况下使冷却剂在管形之载体(2)中循环；一用来连接电源电路所用之装置；和一管形可围绕其纵轴而旋转之载体之旋转驱动器用之装置。此外，本装置可支配一磁铁系统，其沿着该纵轴而延伸，用来以磁性方式导入一种电浆，电浆靠近一由待溅射之材料所构成之靶而配置着，其中由极靴(9，10)和磁铁轭(12，13)所构成之磁铁系统由磁化金属和磁化介质(5)所构成，这些材料适合用来产生该磁铁系统中之磁通量。该磁铁系统之一种极性之磁极配置于该管形载体(2)之外部且以框形方式围绕该载体，且相反之磁极设置在可旋转之管形载体(2)中。

主权项

1.一种阴极溅镀装置,其包含: 一管状靶,其可绕其纵长轴旋转;及 一磁铁系统,其具有一第1极性及一第2极性,其中该 第1极性配置在该管状靶内侧; 其特征在于:该第2极性配置在该管状靶之外侧,且 配置在该管状靶之外表面附近。 2.如申请专利范围第1项之装置,其中该第1极性由 一第1磁性构件提供,从该管状靶内侧来看,该第1极 性系指向外侧。 3.如申请专利范围第1项之装置,其中该第2极性由 一第2磁性构件提供,其中该第2极性产生复数条延 伸至该第1极性且穿过该管状靶的磁场线。 4.如申请专利范围第1项之装置,其中设置两个该第 2极性,根据该第1极性以镜映对称方式设置该两个 第2极性。 5.如申请专利范围第4项之装置,其中设置一第3磁 性构件,其完成该两个第2极性之其中一个。 6.如申请专利范围第5项之装置,其中该三个磁性构 件藉由一轭而互相连结。 7.如申请专利范围第6项之装置,其中该轭由一配置 在该管状靶内部之轭及两个配置在该管状靶外部 之轭所组成。 8.如申请专利范围第6项之装置,其中该等磁性构件 系各自设置在该管状靶之内壁或外壁附近。 9.如申请专利范围第1项之装置,其中在该第1极性 附近且与该第1极性间隔之位置设置一待镀覆之基 板。 10.如申请专利范围第9项之装置,其中该基板设置 在该第1极性及一控制磁铁系统之间。 图式简单说明: 第1图 先前技术中具有可旋转之靶之阴极溅镀装 置之横切面。 第2图 先前技术中一在靶下方配置着弯曲之外罩 面之磁铁组之透视图。 第3图 本发明中具有可旋转之靶之阴极溅镀装置 之透视图,其一部份由磁铁系统之外部组件所围绕 。 第4图 本发明中具有可旋转之靶之阴极溅镀装置 之横切面。 第5图 本发明中具有可旋转之靶之阴极溅镀装置 之横切面,其磁铁系统具有另一种形式。