发明名称 |
惰性气体置换方法和装置、曝光装置及标线片装置 |
摘要 |
本发明的目的是,提供:在采用紫外线光做曝光光,以惰性气体时装置内部进行置换,经投影光学系统将底版图形照射到感光基板上的曝光装置中,用惰性气体有效地置换由底版和薄膜大致围成的空间的技术。为了实现此目的,在用包围部件对要以惰性气体置换的气体置换空间进行围合的构造体上设置多个通气孔,把在构造体的周围形成空间的容器内充满惰性气体,从而使惰性气体侵入气体置换空间内,以惰性气体对气体置换空间内部进行置换。 |
申请公布号 |
CN1442756A |
申请公布日期 |
2003.09.17 |
申请号 |
CN03102324.X |
申请日期 |
2003.01.30 |
申请人 |
佳能株式会社 |
发明人 |
加茂野隆 |
分类号 |
G03F7/20;G03F7/16;G03F7/26 |
主分类号 |
G03F7/20 |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
何腾云 |
主权项 |
1.一种惰性气体置换方法,其特征在于:在用包围部件对要以惰性气体置换的气体置换空间进行围合的构造体上设置多个通气孔,把在所述构造体的周围形成空间的容器内充满惰性气体,从而使所述惰性气体侵入所述气体置换空间内,以所述惰性气体对所述气体置换空间内部进行置换。 |
地址 |
日本东京 |