利用移除辅助特性以增进制程曝光范围之方法

摘要

一种利用微影设备将微影图案转移至基底上的方法，此方法包括步骤：(1)定义要印制于基底上的图案；(2)决定需在哪一图案的附近设置辅助图案，以便在定义的解析度限制内，印制出图案；(3)产生含有要印制之图案及辅助图案的光罩：(4)实施第一照射程序以将图案印制到基底上，第一照射程序在该基底上造成该辅助图案的部分印制；及(5)实施第二照射程序，以减少印制在基底上的辅助图案的量；第二照射程序包括实施四极照射的步骤。