发明名称 DEVICE AND METHOD FOR MONITORING AND REGULATING A PROCESS SOLUTION
摘要 Vorrichtung und ein Verfahren zum fortlaufenden Überwachen und Regeln von Prozesslösung oder der Konzentration von die Oberflächenspannung beeinflussenden Zusätzen in Prozesslö­sung, insbesondere Tensiden, in kontinuierlich arbeitenden industriellen Reinigungs-, Beschichtungs- und Spülanlagen, auf der Grundlage einer Oberflächenspannungsmessung nach der Blasendruckmethode, wobei Einrichtungen zur Erfassung der Oberflächenspannung oder der Konzentration von Prozesszusatz in Prozesslösung, zur Verarbeitung und Steuerung für einen vorgebbaren internen Programmablauf der Vorrichtung und für eine fortlaufende Überwachung der Qualität von Prozesslösung und eine Ansteuerung einer externen Einrichtung zur Prozess­beeinflussung durch ein intelligentes Rechensystem koordi­niert sind, welches selbständig Prozessdaten gewinnt, verarbeitet, zur Modifikation seines Programmablaufes nutzt, mit einem externen Prozessleitsystem austauscht und Prozessbe­einflussung vornimmt.
申请公布号 WO03075108(A1) 申请公布日期 2003.09.12
申请号 WO2003DE00679 申请日期 2003.03.04
申请人 SITA MESSTECHNIK GMBH;HABERLAND, RALF;SCHULZE, LOTHAR 发明人 HABERLAND, RALF;SCHULZE, LOTHAR
分类号 G05B23/02;(IPC1-7):G05B23/02;G05B19/418 主分类号 G05B23/02
代理机构 代理人
主权项
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