光阻材料及图型之形成方法

摘要

本发明之目的在提供，其特征为：含(A)具有以酸不安定基保护之酸性官能基的硷不溶或难溶之高分子化合物，而该酸不安定基脱离时成为硷可溶之高分子化合物，(B)酸产生剂，(C)至少一种选自仅具有含全氟烷基之矽氧烷结合及聚氧化乙烯型聚醚结合之非离子性含氟有机矽氧烷系化合物之非离子性含氟化合物，以波长150奈米以上之紫外线为曝光光源之光阻材料。利用本发明之光阻材料，可经波长150奈米以上之紫外线曝光，不产生残渣形成图型。