发明名称 |
制造导电图案用的材料和方法 |
摘要 |
制造导电图案用的材料,该材料包含支持体和可差示曝光的元件,其特征在于该可差示曝光元件包含最外层,其含有聚阴离子以及取代或未取代噻吩的聚合物或共聚物,以及与最外层相邻的任选第二层;并且其中最外层和/或任选第二层含有光敏部件,其能够在曝光过程中相对于最外层未曝光部分而改变最外层已曝光部分的去除性;以及采用制造导电图案用的材料在支持体上制造导电图案的方法。 |
申请公布号 |
CN1439117A |
申请公布日期 |
2003.08.27 |
申请号 |
CN01811836.4 |
申请日期 |
2001.06.22 |
申请人 |
爱克发-格法特公司 |
发明人 |
J·拉莫特;F·罗维特;M·范达梅;J·维尔默施;H·范埃特;L·格雷宁达尔 |
分类号 |
G03F7/004;G03F7/09;G03F7/016;G03F7/022;H01B1/12 |
主分类号 |
G03F7/004 |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
周慧敏;杨九昌 |
主权项 |
1.制造导电图案用的材料,所述材料包含支持体和可差示曝光元件,其特征在于所述可差示曝光元件包含含有聚阴离子以及取代或未取代噻吩的聚合物或共聚物的最外层,以及与所述最外层接触的任选第二层;并且其中所述最外层和/或所述任选第二层含有光敏部件,其能够在曝光过程中相对于所述最外层未曝光部分改变所述最外层已曝光部分的去除性。 |
地址 |
比利时莫策尔 |