| 主权项 |
1.一种用于特别是晶圆的晶圆形物件(W)之特定部份的液体处理之装置,该装置包含:1.1固持装置(3.53),用来固持该晶圆形物件;1.2一遮蔽件(2),其在形状和尺寸上对应于要用液体来处理的该特定部份之区域;及1.3区隔器装置(3.31.45.41),其把该遮蔽件和该晶圆形物件彼此保持于一特定短距离、使得液体可由毛细力而维持在该遮蔽件和该晶圆形物件(15)之该界定区域间。2.依据申请专利范围第1项之装置,其中该遮蔽件(2)具有一环形件之形状。3.依据申请专利范围第2项之装置,其中该环形件具有小于该晶圆形物件之外径的一内径,以及至少与该晶圆形物件之该外径相同大小的一外径。4.依据申请专利范围第1项之装置,其中该区隔器装置把该遮蔽件和该晶圆形物件保持于0.05至1mm之距离(a1)。5.依据申请专利范围第1项之装置,其中该区隔器装置包含系与该晶圆形物件直接接触、且直接或间接地连结至该遮蔽件(2)的抓取器元件(3.53)。6.依据申请专利范围第1项之装置,其中该遮蔽件和固持装置系绕着相对于该遮蔽件垂直的一轴线(A)旋转,且该遮蔽件和固持装置系彼此相对地静止。7.依据申请专利范围第1项之装置,其中该区隔器装置可包含直接或间接地(41)连结至该遮蔽件(2),且指向该晶圆形物件的一气体馈送装置(45.46),且该晶圆形物件可藉其保持在一气体衬垫上。8.依据申请专利范围第1项之装置,其具有可增加(a2)该遮蔽件和该晶圆形物件彼此间之距离(a1)的距离改变装置(5.44.49),以使得位在该遮蔽件和该晶圆形物件间的液体不再被毛细力所维持。9.依据申请专利范围第8项之装置,其中该距离改变装置系被制成使该装置可在该液体处理期间,在该期间之后紧接着改变在该遮蔽件和该晶圆形物件间的距离。10.依据申请专利范围第8项之装置,其中该区隔器装置之该等元件同时系为该距离改变装置之元件。11.依据申请专利范围第1项之装置,其具有局限该晶圆形物件在周边侧面上之位置,且设置成基本上垂直于该晶圆形物件之主表面的导引元件(3.63)。12.依据申请专利范围第11项之装置,其中该固持装置包含导引元件(63)及一气体馈送装置(45.46)。13.依据申请专利范围第10项之装置,其中该距离改变装置包含直接或间接地连结至该遮蔽件(2)、且指向该晶圆形物件之该主表面(Wf)的一气体积送装置(44.49),该晶圆形物件可藉其保持在一气体衬垫上。14.依据申请专利范围第1项之装置,其中该区隔器装置和该距离改变装置基本上系为相同气体馈送装置(44.45.46.49),且该装置具有该气体馈送装置可藉其来切换到至少两不同操作状态中,而藉以调整在该晶圆形物件和该遮蔽件间的两不同距离之装置。15.依据申请专利范围第1项之装置,其中该固持装置可被引起来旋转(R)。16.依据申请专利范围第1项之装置,其包含有被导向于该晶圆形物件面对该遮蔽件之表面的一液体管线(26)。图式简单说明:第1-5图构造地显示如本发明中所请求的不同实施例之轴向剖面图5。第6-8图显示在不同操作状态中如第1图所显示的一实施例之概要轴向剖面图。 |
