发明名称 ROTATIONAL SLURRY DISTRIBUTION SYSTEM FOR ROTARY CMP SYSTEM
摘要
申请公布号 SG97788(A1) 申请公布日期 2003.08.20
申请号 SG19990001973 申请日期 1999.04.27
申请人 CHARTERED SEMICONDUCTOR MANUFACTURING LTD 发明人 SEBASTIAN QUEK, SER WEE
分类号 B24B37/04;B24B57/02;(IPC1-7):B24B7/00;B24B29/00 主分类号 B24B37/04
代理机构 代理人
主权项
地址