| 主权项 |
1.一种用于在一区域基板(9)上涂覆之装置,其包括:一静止蒸发器源(28),用于使涂覆在该基板(9)上的材料蒸发;一驱动装置,使该区域基板(9)相对该蒸发器源(28)而移动;一第一分配器装置(40),将由该蒸发器源(28)所输出的蒸汽作线性分配;及一第二分配器装置(46),其一末端系至少邻近该蒸发器源(28)而设置,且其另一末端系终结于该第一分配器装置(40)中。2.如申请专利范围第1项之装置,其中将该基板(9)定向成,使该基板(9)表面上的一法线与地球重力方向大体上成垂直而延伸。3.如申请专利范围第1项之装置,其中为该基板(9)之运动系与该基板(9)之法线大体上成垂直且与地球重力大体上成垂直。4.如申请专利范围第1项之装置,其中该分配器线系与该基板(9)表面及地球重力表面大体上成平行而延伸。5.如申请专利范围第1项之装置,其中该第一分配器装置(40)系一石英管,其中该蒸汽之线性分配系通过被设置于一笔直线上的复数个孔洞(101)。6.如申请专利范围第1项之装置,其中该第二分配器装置(46)系一石英管。7.如申请专利范围第6项之装置,其中该第一及第二分配器装置(40.46)皆由一陶瓷套筒(52.58;43)所围绕。8.如申请专利范围第7项之装置,其中环绕着该第一分配器装置(40)之该陶瓷套筒(52.58)包括有两半管(52.58),其中在一半管(52)中提供了设置于一笔直线上的复数个孔洞(102)。9.如申请专利范围第7项之装置,其中该等陶瓷套筒(52.58;43)皆由一金属套筒(53.57;42)所围绕。10.如申请专利范围第9项之装置,其中环绕着该陶瓷套筒(52.58)之该金属套筒(53)包括两半管(53.57),其中在一半管(53)中提供了设置于一笔直线上的复数个孔洞(103)。11.如申请专利范围第1项之装置,其中至少一该等分配装置(40.46)可间接地加热。12.如申请专利范围第7项之装置,其中该等陶瓷套筒(52.58;43)具有复数个电气加热元件(88.89;92.93)。13.如申请专利范围第1项之装置,其中该蒸发器源(28)包括一坩埚(44),该坩埚(44)的温度可调节且可精确地调整于至少100℃至800℃的一范围内。14.如申请专利范围第13项之装置,其中该坩埚(44)可与该等分配器装置其中之一连结。15.如申请专利范围第1项之装置,其中该蒸发器源(28)中蒸发之材料系一有机物质。16.如申请专利范围第1项之装置,其中该第二分配器装置(46)系以大约45之一角度连附至该第一分配器装置(40)。17.如申请专利范围第1项之装置,其中该蒸发器源(28)包括一坩埚(44),该坩埚系藉一歪斜分隔壁(69)而分割成两区间(45.73),其中该上方区间(73)中系设置待蒸发材料,而该下方区间(45)系一空容室。18.如申请专利范围第17项之装置,其中相对于该坩埚(44)一底部(66)处提供了具有一温度感测器(77)之一支持件(82)。19.如申请专利范围第1项之装置,其中提供具有一门(6.7.8)之一涂覆锅炉(1),一蒸发器源(28)系以凸缘安装至其外侧上。20.如申请专利范围第19项之装置,其中该涂覆锅炉(1)系相对于地球重力略微倾斜。21.如申请专利范围第20项之装置,其中该倾斜系7。22.如申请专利范围第7项之装置,其中该等陶瓷套筒(52.58;43)之外侧上设有电气地可加热元件(88至90.92.93)。23.如申请专利范围第17项之装置,其中一热感测器(78.84)系引进该坩埚(44)之该下方区间(45)中。图式简单说明:第1图系依据本发明之一涂覆容室的总透视图;第2图系依据第1图之涂覆容室的前视图;第3图系通过依据第2图之容室的剖面A-A;第4图系通过依据第2图之容室的剖面B-B;第5图系依据第3图之坩埚的一放大剖面表示;第6图系第4图之放大局部表示;第7图系用于分配经蒸发材料之分配器装置的透视爆炸图式。 |
