| 主权项 |
1.一种于半导体元件生产中使用主光罩控制资料流之方法,其特征在于每一主光罩提供一独特结构的主光罩资料记录,该主光罩资料记录的内容会自动改正和/或补充作为半导体装置的制造过程之功能。2.如申请专利范围第1项的方法,其特征在于该主光罩资料记录在一中央资料处理系统(20)中储存并处理。3.如申请专利范围第1或2项之方法,其特征在于该主光罩资料记录包括该主光罩的制造资讯,尤其是关于一晶片配置或切口资料资讯。4.如申请专利范围第1或2项之方法,其特征在于该主光罩资料记录包括该主光罩上的测量点资讯和/或该主光罩上的测试测量资料。5.如申请专利范围第1或2项之方法,其特征在于该主光罩资料记录包括该主光罩上至少一测试协定资讯。6.如申请专利范围第2项之方法,其特征在于在该主光罩资料记录的基础上,该中央资料处理系统可为主光罩测试设备自动产生至少一控制程序。7.如申请专利范围第2项之方法,其特征在于在为该主光罩改正与制造相关的规范和/或容忍限制的情况下,该中央资料库系统(20)能为该主光罩的测量与测试设备产生改正后的程序。8.如申请专利范围第1或2项之方法,其特征在于一主光罩资料记录是由关于该主光罩的特性、一发行号、该主光罩的瞬间位置、该主光罩的瞬间使用、状况、该主光罩的使用期限和/或主光罩的生产历史资讯组成。9.如申请专利范围第2项之方法,其特征在于该中央资料处理系统(20)在生产中控制使用该主光罩作为该主光罩资料记录中的资讯,尤其是给设备分配特定的主光罩。10.如申请专利范围第1或2项之方法,其特征在于根据该主光罩资料记录资讯,尤其是向预防检测和/或清洗程序,提供主光罩的资讯,并允许在一储存器和/或在主光罩后面的排序中储存。11.如申请专利范围第1或2项之方法,其特征在于一主光罩制造商与一半导体元件制造商之间可以自动交换和/或处理该主光罩资料记录,尤其在实质制造群集的情况下。12.如申请专利范围第1或2项之方法,其特征在于可以通通网际网路交换主光罩资料记录。13.如申请专利范围第1或2项之方法,其特征在于可以使用HTML萤幕格式处理该主光罩资料记录。14.如申请专利范围第1或2项之方法,其特征在于该中央资料库系统(20)自动产生主光罩标签和/或主光罩容器作为主光罩资料记记录。15.一种用于执行如申请专利范围第1项之方法的装置。图式简单说明:图1是根据本发明中的方法之具体实施例的资料流的示意图。 |
