发明名称 |
尤其适用于金属熔体上所浮熔渣的熔体取样器 |
摘要 |
本发明涉及一种尤其适用于金属熔体面上所浮熔渣的熔体取样器,该取样器包括一个置于支座中的单件式或多部件组合式壳体,其中设有一个入口和一个包括两面相向室壁的采样室,同时在一面室壁上设有一个导入孔。为使取样能够均匀而前后一致地进行,在采样室内隔开采样室室壁一定距离配置了一块至少有一个通流孔的间隔板。 |
申请公布号 |
CN1432656A |
申请公布日期 |
2003.07.30 |
申请号 |
CN03100157.2 |
申请日期 |
2003.01.03 |
申请人 |
贺利氏耐特电子国际有限公司 |
发明人 |
约翰·克内费尔斯;吉多·古斯塔夫·安东·卡帕;弗兰克·明内奥 |
分类号 |
C21B7/24;G01N1/12 |
主分类号 |
C21B7/24 |
代理机构 |
隆天国际知识产权代理有限公司 |
代理人 |
楼仙英;曾建成 |
主权项 |
1.尤其适用于金属熔体面上所浮熔渣的熔体取样器,该取样器包括一个置于支座中的单件式或多部件组合式壳体,其中设有一个入口和一个包括两面相向室壁的采样室,同时在一面室壁上设有一个导入孔,其特征在于,采样室(4)内隔开采样室室壁(5、6)一定距离设有一块间隔板(8),并且所述间隔板(8)上至少设有一个通流孔(9、9′)。 |
地址 |
比利时豪塔伦市 |