发明名称 |
异质结双极型晶体管和利用它构成的半导体集成电路器件 |
摘要 |
异质结双极型晶体管具有提高的击穿电压,并抑制I<SUB>C</SUB>-V<SUB>CE</SUB>特性的增长特性的退化。集电极区域包括半导体第一、第二集电极层。第一集电极层是由掺杂或未掺杂的半导体制成的,与副集电极区域接触。第二集电极层是由掺杂或未掺杂的半导体制成的,具有比第一集电极层窄的带隙,与基极区域接触。第三集电极层具有比第二集电极层高的掺杂浓度,被第一集电极层和第二集电极层夹在当中。 |
申请公布号 |
CN1433082A |
申请公布日期 |
2003.07.30 |
申请号 |
CN02129843.2 |
申请日期 |
2002.08.15 |
申请人 |
NEC化合物半导体器件株式会社 |
发明人 |
丹羽隆树;岛胁秀德;东晃司;黑泽直人 |
分类号 |
H01L29/737 |
主分类号 |
H01L29/737 |
代理机构 |
中原信达知识产权代理有限责任公司 |
代理人 |
谷惠敏;袁炳泽 |
主权项 |
1.一种异质结双极型晶体管,包括:副集电极区域,它由第一导电类型的半导体制成;集电极区域,它由第一导电类型的半导体制成,与副集电极区域接触;基极区域,它由第二导电类型的半导体制成,与集电极区域接触;发射极区域,它由第一导电类型的半导体制成,与基极区域接触;集电极区域包括:第一集电极层,它由第一导电类型半导体或未掺杂的半导体制成,与副集电极区域接触;第二集电极层,它由第一导电类型半导体或未掺杂的半导体制成,具有比第一集电极层更窄的带隙,与基极区域接触;第三集电极层,它由比第二集电极层掺杂浓度更高的,第一导电类型的半导体制成,在第一集电极层和第二集电极层之间。 |
地址 |
日本神奈川县 |