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发明名称 PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHODS AND APPARATUS
摘要
申请公布号 AU2002340316(A1) 申请公布日期 2003.07.24
申请号 AU20020340316 申请日期 2002.10.28
申请人 CORNING INCORPORATED 发明人 KEITH, L. HOUSE;SAMIR KHANNA;BARTON, G., III LANE;PRANTIK MAZUMDER
分类号 C03B37/018;(IPC1-7):C03B37/018 主分类号 C03B37/018
代理机构 代理人
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