| 摘要 |
<p>Es wird ein Verfahren zur Herstellung von Silicium beschrieben, bei dem Si02 oder Silikate mit Fluorwasserstoff oder einem Fluorid eines Metalls der Gruppe I oder II des Periodensystems oder Hexafluorosilikate thermisch zu SiF4 umgesetzt werden. Das erhaltene SiF4 wird mit einem Metall der Gruppe I oder II des Periodensystems oder zu Si und einem Metallfluorid reduziert. Das Verfahren zeichnet sich dadurch aus, dass es einen in sich geschlossenen Produktionsprozess darstellt, bei dem wenig bzw. gar keine Nebenprodukte anfallen und die für die Umsetzung benötigten Reaktionsteilnehmer weitgehend aus den Edukten des Verfahrens gewonnen werden.</p> |
