基板保持装置,基板处理装置及基板端缘洗净装置

摘要

本发明之目的是促成即使是大型而且薄型之基板，亦可在基板处理高度和基板授受高度之间进行良好之升降。本发明之解决手段是使基板保持台11被构建成为将比基板s小之四角环状之4片吸着板片111A，111B，111C，111D，安装在组合成直方体状之框架112之上面。多根之升降梢12被设在基板保持台11之内方成为可升降之方式。利用多根之升降低梢12，从背面侧支持基板S之部，利用该升降梢12之升降，可以用来使基板S在基板保持台11之上方进行升降，另外，在对基板S之端缘部进行洗净处理时，基板S之部被升降梢12支持，和部和端缘部以外之部份被吸着和保持在基板保持台11。

主权项

1.一种基板保持装置,其特征是包含有:第1基板支持装置,接触在方形基板之背面,用来大致水平的将该方形基板支持在预定之高度;第2基板支持装置,接触在方形基板背面之比上述第1基板支持装置所接触之区域内方之区域,可以单独的支持该方形基板;升降驱动机构,用来使该第2基板支持装置对上述之第1基板支持装置进行相对升降;和控制装置,用来控制上述之升降驱动机构,在上述之预定高度,使方形基板被上述之第1和第2基板支持装置双方支持。2.如申请专利范围第1项之基板保持装置,其中上述之第1基板支持装置包含有基板装载板,具有平面看比方形基板小之矩形之外形,可以在其上面装载方形基板。3.如申请专利范围第2项之基板保持装置,其中上述之基板装载板之上面和外端面,以弯曲到外侧之曲面连接。4.如申请专利范围第2项之基板保持装置,其中上述之基板装载板之上面和内端面,以弯曲到外侧之曲面连接。5.如申请专利范围第3项之基板保持装置,其中在上述之基板装载板之上面和外端面之连接部份,被施加有使用树脂之涂膜。6.如申请专利范围第2项之基板保持装置,其中在上述之基板装载板之上面形成有吸着孔,用来吸着方形基板之背面;和上述之第1基板支持装置用来将方形基板之背面吸着和支持在上述之基板装载板之上面。7.如申请专利范围第6项之基板保持装置,其中更包含有气体供给装置,连接到上述之吸着孔,用来将气体供给到基板装载板之上面。8.如申请专利范围第2项之基板保持装置,其中上述之基板装载板之指定部被构建成为可以围绕沿着其外端面之水平轴线自由的摇动。9.如申请专利范围第2项之基板保持装置,其中上述之基板装载板包含有分别沿着方形基板之各边之4个板片。10.如申请专利范围第9项之基板保持装置,其中上述之4个板片之至少一个被构建成为可以围绕沿着外端面之水平轴线自由的摇动。11.如申请专利范围第10项之基板保持装置,其中被构建成为可以围绕上述水平轴线自由摇动之板片,设置成使其外端缘可以对方形基板之背面进行接离。12.如申请专利范围第10项之基板保持装置,其中被构建成为可以围绕上述水平轴线自由摇动之板片,设置成使其内端缘可以对方形基板之背面进行接离。13.如申请专利范围第1项之基板保持装置,其中上述之第2基板支持装置包含有多个升降梢,接触在方形基板之背面。14.如申请专利范围第13项之基板保持装置,其中在上述之升压梢之前端形成有吸着孔,用来吸着方形基板之背面。15.如申请专利范围第1项之基板保持装置,其中更包含有位置调整装置,接触在方形基板之端面,用来使该方形基板之水平面内之位置定位在预定之基板保持位置。16.如申请专利范围第1项之基板保持装置,其中更包含有除电装置,用来对方形基板进行除电。17.一种基板处理装置,用来洗净在表面形成有薄膜之方形基板之端缘部,其特征是包含有:申请专利范围第1至16项中任一项之基板保持装置;和端缘洗净装置,用来将溶剂供给到被保持在该基板保持装置之方形基板之端缘部,藉以除去形成在该端缘部之不要之薄膜。18.如申请专利范围第17项之基板处理装置,其中上述之端缘洗净装置包含有溶剂吐出喷嘴,用来朝向方形基板之端缘部吐出溶剂。19.如申请专利范围第18项之基板处理装置,其中上述之端缘洗净装置更包含有气体喷嘴,用来朝向方形基板上之溶剂供给位置近傍喷射气体。20.如申请专利范围第19项之基板处理装置,其中上述之端缘洗净装置包含有:洗净头,用来将上述之溶剂吐出喷嘴和气体喷嘴保持为一体;和移动机构,用来使该洗净头沿着被保持在上述之基板保持装置之方形基板之边进行移动。21.如申请专利范围第20项之基板处理装置,其中在上述之洗净头形成有用以收容处理对象之基板之端缘部之处理空间;和上述之端缘洗净装置更包含有排气装置,连接到上述之处理空间,用来排出该处理空间内之环境气体。22.如申请专利范围第21项之基板处理装置,其中上述之洗净头具备有上下面对之一对之块,上述之处理空间形成在上述之一对之块之间;和在上述之一对之块之各个,设置上述之溶剂吐出喷嘴和气体喷嘴。23.一种基板保持装置,其特征是包含有:固定框架;多个基板装载板,被安装在该固定框架,在其上面可以装载基板;和滑动机构,用来使该多个基板装载板中之至少1个,以大致水平之方向对上述之框架进行相对滑动。24.如申请专利范围第23项之基板保持装置,其中更包含有固定梢,被配置在上述多个基板装载板之间,用来接触被装载在上述多个基板装载板之基板之背面。25.一种基板端缘洗净装置,用来洗净在表面形成有薄膜之基板之端缘部,其特征是包含有:申请专利范围第23或24项之基板保持装置;和端缘洗净装置,用来将溶剂供给到被该基板保持装置保持之基板之端缘部,藉以除去形成在该端缘部之不要之薄膜。图式简单说明:图1是本发明之第1实施形态之基板端缘洗净装置(基板处理装置)之平面图。图2是从图1之II-II看到之剖面图。图3是剖面图,用来说明基板保持台之构造。图4是侧面图,用来表示洗净头之构造。图5用来说明对基板之端缘部之洗净处理。图6是图解之剖面图,用来说明用以缓和基板被吸着在基板吸着板之吸着状态之另一构造。图7是图解之剖面图,用来说明用以缓和基板被吸着在基板吸着板之吸着状态之更另一构造。图8是本发明之第2实施形态之基板端缘洗净装置之平面图。图9是从图8之II-II看到之剖面图。图10是基板保持台之平面图。图11是从图10之V-V看到之剖面图。图12是图解之平面图,用来说明基板保持台之另一构造例。图13是图解之平面图,用来说明基板保持台之更另一构造例。